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自動氬氣純化裝置，是在吸取國內所有氬氣凈化機經驗基礎上研究開發的一款新產品，也是國內同類產品中*生產并市場化的全自動純化裝置。該產品能把普通工業氬氣(99.9％)凈化、純化后得到高純氬氣(99.9999％)。高純氬廣泛應用于電子、冶金、機械、高純材料和儀器分析等產業部門和科學研究中。為直讀光譜儀、等離子光譜儀、輝光光譜儀、定氫儀和單晶硅、光電材料生產等提供穩定的高純氬氣。
　　氬氣純化技術特點
　　1.氬氣純化裝置采用凈化加純化雙重處理，它比一般凈化機及單純的純化器多裝有除去N2、CH4、H2、CO等雜質高效吸附劑，因此它不但具有普通凈化機除去O2、H2O、CO2等氣體雜質的功能，還具有普通凈化機不具有的除去N2、CH4、H2、CO等氣體雜質的功能。凈化后純度達到99.9999％以上；
　　2.氬氣純化裝置為雙系統結構，開機后一組工作，另一組再生備用，且工作和再生都自動進行，故能夠長期連續供氣；當雜質吸附飽和后，可通過再生恢復活性，故壽命長；
　　3.氬氣純化裝置采用微電腦工業控制技術，具有全自動功能，使用操作簡單，克服了手動和半自動機型因人為操作失誤引起的氣體不純，性能穩定可靠，只要有氣源，就可實現長期無人管理；
　　4.對原料氬氣要求不高，普通工業純氬只要純度達到≥99.6％就可以；
　　5.氣路系統內部管道全用電動控制閥及不銹鋼電化拋光管制造，避免了因氣路管道質量過差而對氣體造成二次污染。
　　氬氣純化主要技術指標
　　1.輸入原氣
　　本純化裝置允許原料氬氣中的氧含量≤3000ppm、N2≤200ppm、水≤1000ppm(即露點低于-20ºC)，一般瓶裝純氬均能滿足這些要求。
　　2.輸出純氣
　　純氣的*大輸出能力為4m³／h
　　純氣中雜質含量：O2≤0.2ppm　N2≤0.2ppm
　　H2O≤1ppm　即露點≤-76ºC
　　C的氧化物≤0.1ppm　S、P的氧化物≤0.1ppm
　　塵埃粒子數(≥0.3µm)3-5個／升，即100級
　　3.工作條件
　　工作壓力≤1.0MPa
　　催化塔工作溫度260ºC；吸附塔工作溫度室溫
　　合金吸附塔工作溫度　300ºC；吸附塔再生溫度400ºC；再生用氣量500ml／min
　　4、氬氣純化高純氬氣指標

氣體	純度(%)	H2 (ppm)	O2 (ppm)	CO (ppm)	CO2 (ppm)	CH4 (ppm)	露點 (H2O)
原氬	99.9	<100	<15	<5	<5	<5	－65℃
精氬	99.9999	≤0.2	≤0.3	≤0.2	≤0.2	≤0.2	－80℃